Кремний в розлив
Японские компании Seiko Epson и JCR совместно разработали новую технологию изготовления тонкопленочных транзисторов, которая обещает значительно снизить стоимость производства TFT-дисплеев. В настоящее время в его основе лежит процесс химического осаждения паров, известный под аббревиатурой CVD (chemical vapor deposition). Высокочистый кремний подвергается возгонке в вакууме, после чего его пары осаждаются на подходящую матрицу, например, подложку из пластика. В результате ее поверхность покрывается твердой кремниевой пленкой, на которой посредством фотолитографии формируется микросхема. Эта технология требует высокотемпературной вакуумной аппаратуры и поэтому обходится весьма недешево.
Новый метод, созданный под руководством Масахиро Фурусава (Masahiro Furusava), основан на применении не газообразного, а жидкого кремния. Сырьем для его получения служит жидкое при комнатной температуре силиконоводородное соединение циклопентасилан, молекула которого содержит кольцо из пяти атомов кремния. При облучении ультрафиолетом такие кольца разрываются и образуют цепочки, которые соединяются друг с другом в цепи большей длины. В результате образуется очень вязкая силиконовая жидкость, которую затем разжижают с помощью толуола или другого органического растворителя. Полученный состав методом центрифугирования наносят на матрицу и нагревают до 500 градусов Цельсия в камере, заполненной химически инертным газом. В результате на подложке возникает пленка из твердого поликристаллического кремния, на которой можно обычным способом формировать микросхемы. Подвижность электронов в такой пленке составляет 108 см2/В*с, что ненамного меньше аналогичных показателей пленок, полученных с помощью парового осаждения (максимум 142 см2/В*с).
Японские ученые также использовали для нанесения пленки струйный принтер, что позволило уже на первом этапе получить основу будущей микросхемы. Однако подвижность электронов в этом случае составила только 6,5 см2/В*с. Разработчики рассчитывают со временем многократно увеличить этот показатель и одновременно повысить разрешающую способность принтерной технологии, которая пока что слишком груба для изготовления микросхем с высокой плотностью элементов. — А.Л.
Подъем на HAL’яву
Не секрет, что за долгие годы непрестанной альпинистской «штурмовщины» Альпы успели повидать всякое. Впрочем, не исключено, что восхождение, которое состоится в ближайшие месяцы, удивит даже эти убеленные снегом древние вершины. Шутка ли: отправиться к заоблачным высотам намерена команда Страны восходящего солнца, в составе которой — полупарализованный после автокатастрофы 43-летний архитектор Сейдзи Учида (Seji Uchida) и 16-летний студент Киога Иде (Kyoga Ide), страдающий от хронической мышечной дистрофии.